設(shè)備自動完成去膠、剝離工藝,藥液可循環(huán)利用,可配置去膠單元、清洗單元、浸泡單元,基片采用邊緣夾持接觸方式,采用扇狀噴液方式,可保證去膠效果的一致性;浸泡單元采用浸泡及超聲波輔助去膠功能,加速膠膜溶解,溫度控制穩(wěn)定可靠;單元設(shè)有二氧化碳滅火裝置
設(shè)備自動完成去膠、剝離工藝,藥液可循環(huán)利用,可配置去膠單元、清洗單元、浸泡單元,基片采用邊緣夾持接觸方式,采用扇狀噴液方式,可保證去膠效果的一致性;浸泡單元采用浸泡及超聲波輔助去膠功能,加速膠膜溶解,溫度控制穩(wěn)定可靠;單元設(shè)有二氧化碳滅火裝置。 晶片尺寸
2-12英寸圓形及方形基片去膠、剝離工藝。
主要技術(shù)參數(shù)
1、晶片尺寸: 2-12英寸
2、上下料方式: 手動上下片/高效機械手自動傳送
3、機械手臂: 四只機械手,干濕分離,重復(fù)定位精度±0.1mm
4、離心機轉(zhuǎn)速
轉(zhuǎn)速: 3000rpm 加速度:≥1000RPM/s
最小調(diào)整量: 1rpm 轉(zhuǎn)速精度: ±1rpm(50 rpm~2000 rpm)
5、夾持方式: 邊緣夾持/真空吸附
溫度加熱范圍: 30-80℃±2℃
6、藥液循環(huán)過濾功能: 有(可回收一種藥液),最小藥液過濾直徑≤0.1um
7、N2吹干功能: 有
8、浸泡單元(數(shù)量:≤2個): 6寸晶圓數(shù)量24pcs, 8/12寸晶圓數(shù)量12pcs
浸泡方式: 拋動、N2鼓泡,每片浸泡時間可控,具備自動補液功能
加熱范圍: 30-85℃±2℃,溫度傳感,超溫自動報警
9、超聲波去膠功能: 可選
10、金屬回收: 金屬回收效率>99%
11、軟件功能: 中英文切換,重要參數(shù)可形成線性曲線
12、去膠單元腔體(數(shù)量:≤2個)高壓去膠噴嘴:具備噴射柱狀和扇狀液體功能的噴嘴,壓力可達23MPa
13、去靜電裝置: 1)靜電接地 2)可配置CO2混合器,控制DI水電阻率,防止靜電產(chǎn)生
14、背噴: 可配置NMP/IPA/ACE/DIW
15、CO2自動滅火系統(tǒng): 火焰探測報警和CO2自動滅火功能
16、顆粒度控制: 空跑運行測試,新增顆?!?0顆(0.2um)
17、去膠效果: 通過顯微鏡觀察檢測,正/背面無金屬殘留、無光刻膠及其它物質(zhì)殘留
應(yīng)用行業(yè)
廣泛應(yīng)用于封裝、LED、光通訊、化合物半導體等領(lǐng)域。