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三河建華高科有限責(zé)任公司

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SB-402雙面曝光機(jī)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等領(lǐng)域的雙面對(duì)準(zhǔn)和曝光

詳細(xì)介紹

該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）等領(lǐng)域的雙面對(duì)準(zhǔn)和曝光。

主要技術(shù)特點(diǎn)

對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)

高精度薄型精密雙層三維對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)，采用交叉滾柱V形導(dǎo)軌副和θ向超薄軸承及中心滑塊結(jié)構(gòu)，保證了工作臺(tái)的直線性和旋轉(zhuǎn)精度。

機(jī)械手機(jī)構(gòu)

機(jī)械手采用直線導(dǎo)軌和滾珠絲杠結(jié)構(gòu)，具有高的定位精度和重復(fù)精度。

上版架系統(tǒng)

上掩模版的升降導(dǎo)軌選用THK可調(diào)分離型直線導(dǎo)軌，驅(qū)動(dòng)采用高分辨率的數(shù)顯微分頭，從而保證兩掩模版的重復(fù)精度和定位精度。

對(duì)準(zhǔn)觀察系統(tǒng)

雙光路結(jié)構(gòu)的臥式分離視場(chǎng)顯微鏡，可以獲取高清晰的圖像同時(shí)兼容CCD成像顯示。

曝光系統(tǒng)

上、下兩套獨(dú)立的紫外光曝光系統(tǒng)，采用*的結(jié)構(gòu)方案，具有較高的光強(qiáng)、均勻性、光學(xué)分辨率。

主要技術(shù)指標(biāo)

性能名稱(chēng)		技術(shù)指標(biāo)
適用基片尺寸		Max. φ4″（φ100mm）
適用掩模版尺寸		Max. 5″（125mm×125mm）
上下掩模版對(duì)準(zhǔn)行程	Ｘ向	±4mm
	Y向	±4mm
	θ向	±7.5°
上下掩模版對(duì)準(zhǔn)精度		±3um
掩模版對(duì)基片對(duì)準(zhǔn)行程	Ｘ向	±4mm
	Y向	±4mm
	θ向	±5°
掩模對(duì)基片對(duì)準(zhǔn)精度		±3μm（以單一面兩標(biāo)記形位檢測(cè)）
顯微鏡	物鏡放大率	6.5×
	目鏡放大率	10×
	總放大倍數(shù)	65×
	物鏡分離距離	26～70mm
曝光光源		365nm，250W進(jìn)口汞燈
曝光面積		φ110mm
曝光分辨率		3μm（正膠）5μm（負(fù)膠）
曝光不均勻性		±3%
曝光時(shí)間		0～999s
曝光光強(qiáng)		≥15mW/cm²

關(guān)鍵詞:

曝光

模版

對(duì)準(zhǔn)

精度

結(jié)構(gòu)

系統(tǒng)

采用

4mm

分離

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