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三河建華高科有限責(zé)任公司

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BG-501曝光機(jī)

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產(chǎn)品簡介

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光

詳細(xì)介紹

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光。本產(chǎn)品操作方便、穩(wěn)定性高、重復(fù)性好，并具有較高的性能價(jià)格比，可廣泛應(yīng)用于科研和生產(chǎn)。

主要技術(shù)特點(diǎn)

對準(zhǔn)工作臺

對準(zhǔn)精度搞，漂移小，精密楔形誤差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)三點(diǎn)找平，找平力小，延長掩摸版使用壽命。

曝光系統(tǒng)

采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學(xué)件，具有較高的光強(qiáng)、均勻性、光學(xué)分辨率。

分離視場顯微鏡

顯微鏡像質(zhì)清晰，觀察舒適。

控制系統(tǒng)

電氣控制采用可編程序控制器（PLC）、LCD顯示器，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設(shè)備的關(guān)鍵件采用進(jìn)口或?qū)I(yè)廠家制造，氣動元件采用SMC產(chǎn)品，提高了設(shè)備的穩(wěn)定性、可靠性，同時(shí)提供個(gè)性化服務(wù)。

主要技術(shù)指標(biāo)

性能名稱			技術(shù)指標(biāo)
適用基片尺寸			Max. φ5″（φ125mm）
適用掩模版尺寸			Max. 6″（150mm×150mm）
工作臺行程		Ｘ向	±5mm
		Y向	±5mm
		Z向	3mm
		θ向	±5°
基片與掩模版分離間隙			0～0.05mm
對準(zhǔn)精度			±1μm
顯微鏡	物鏡放大率		0.75×～5×
	總放大倍數(shù)		40×～300×
	物鏡分離距離		50～120mm
	掃描范圍		50mm×50mm
	調(diào)焦范圍		8mm
曝光光源			365nm，500W進(jìn)口汞燈
曝光面積			φ160mm
曝光分辨率			1.5um（正膠、真空接觸）
光強(qiáng)			≥20mW/cm²
曝光不均勻性			±5%
曝光時(shí)間			0～999s
外型尺寸			1300mm×1100mm×1650mm
重量			300Kg

關(guān)鍵詞:

曝光

采用

分離

主要

尺寸

設(shè)備

光強(qiáng)

物鏡

分辨率

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