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寧波潤(rùn)華全芯微電子設(shè)備有限公司
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半自動(dòng)勻膠顯影機(jī)2

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更新時(shí)間:2023-08-20 11:42:57瀏覽次數(shù):535次

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手動(dòng)上、下片
手動(dòng)上、下片,自動(dòng)對(duì)位和自動(dòng)滴膠、顯影,晶圓背部清洗(BSR),邊緣清洗(EBR) CUP腔體自動(dòng)清洗,CUP方便拆卸,限度減少光刻膠及顯影液堆積 膠嘴具有保濕功能,防止由于勻膠機(jī)間歇生產(chǎn)而造成光刻膠干化 晶片尺寸
2-12英寸,圓形及方形基片,光刻膠旋涂及顯影工藝

主要技術(shù)參數(shù)
1、晶片尺寸: 2-12寸
2、上下料方式: 手動(dòng)取送片
3、離心機(jī)轉(zhuǎn)速
額定轉(zhuǎn)速: 6000 rpm
最小調(diào)整量: 1rpm
轉(zhuǎn)速精度: ±2rpm(50 rpm~6000 rpm)
4、吸盤(Chuck)
晶片固定方式: 真空吸附
吸盤真空檢測(cè): 數(shù)顯真空壓力傳感器
材質(zhì): PPS、陶瓷(可根據(jù)客戶提供材質(zhì)制作)
5、收集杯材質(zhì)(CUP): PP,氣液分離排放
6、供液方式: 自動(dòng)供膠、自動(dòng)顯影
7、光刻膠黏度: MAX. 10000CP
8、光刻膠種類: MAX. 3種
9、光刻膠保濕功能: 丙酮藥液保濕盒
10、光刻膠清洗功能: 晶圓背部清洗;晶圓邊緣清洗
11、顯影液種類: MAX. 2種

12、光刻膠/顯影液過濾: 有,0.1um/0.2um可選


應(yīng)用行業(yè)
廣泛服務(wù)于MEMS、OLED、光通信、SAW、*封裝、科研等領(lǐng)域

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