產(chǎn)品介紹: 名 稱:勻膠顯影機 型 號:SC100-DE 原產(chǎn)地: 應 用:SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設(shè)備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。 產(chǎn)品概述: SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設(shè)備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。 不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng),采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序,使您的工藝更具有實際應用意義;同類產(chǎn)品中的達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度,確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和的可重復性。 性能參數(shù): l 主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學腐蝕易清潔) l 旋涂程序:最多可存100組程序,每組100步,每個步驟可精確到0.1秒 l 轉(zhuǎn)動速度:0-10,000rpm(更高速可選) l 旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載) l 馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm l 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm,重復性< 1rpm l 工藝時間設(shè)定: 0-3,000 sec/step,時間設(shè)置精度:0.1sec l 支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圓晶) l 標準配置兩路噴液系統(tǒng)(顯影液和去離子水) 產(chǎn)品特點: l 主機在SC100-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋 l 全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果 l 可實現(xiàn)最多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干 l 控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便 l 顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置 l 提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計 l 高可靠性和重復性,高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選 l 可添加去邊膠和背膠清洗功能 產(chǎn)品外型尺寸: 433mm(D) * 306mm(W) * 306mm(H) – 標準設(shè)備結(jié)構(gòu)
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