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美國(guó)ABM正面對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

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武漢恒麥科技有限公司

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美國(guó)ABM光刻機(jī)ABM光刻機(jī)公司成立于1986年，總部位于美國(guó)硅谷SanJose。主要經(jīng)營(yíng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)(光刻機(jī))，單獨(dú)曝光系統(tǒng)，光強(qiáng)儀/探針。公司的主要市場(chǎng)在美國(guó)和亞洲。截止到2010年3...

詳細(xì)介紹

美國(guó)ABM光刻機(jī)

ABM光刻機(jī)公司成立于1986年，總部位于美國(guó)硅谷San Jose。主要經(jīng)營(yíng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)(光刻機(jī))，單獨(dú)曝光系統(tǒng)，光強(qiáng)儀/探針。公司的主要市場(chǎng)在美國(guó)和亞洲。

截止到2010年3月，ABM公司在世界范圍售出了800多臺(tái)光刻機(jī)，50多臺(tái)單獨(dú)曝光系統(tǒng)。在美國(guó)擁有眾多客戶，最的客戶是美國(guó)NASA和INTEL，ABM光刻機(jī)在中國(guó)臺(tái)灣一，超過(guò)半數(shù)的大學(xué)、研究所和部分工廠使用ABM的光刻機(jī)。

ABM光刻機(jī)在中國(guó)銷售超過(guò)150臺(tái)，擁有眾多的不同類型的客戶，包括：國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、各領(lǐng)域研究所、大學(xué)和為數(shù)眾多的工廠，設(shè)備用于生產(chǎn)和研發(fā)，ABM光刻機(jī)愿以其*的性能和有競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)提供了優(yōu)良的產(chǎn)品和良好的服務(wù)。

美國(guó)ABM正面對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)

型號(hào)：ABM/6/350/NUV/DCCD/M
光學(xué)系統(tǒng)：

   曝光時(shí)間調(diào)解器：0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
   365-400nm光強(qiáng)傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán)；
   聲控功率警報(bào)裝置可防止系統(tǒng)功率超過(guò)設(shè)定指標(biāo)；
   有安全保護(hù)裝置的溫度及其氣流傳感器；
   全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度；
   波長(zhǎng)濾片檢查及安裝裝置
   抗衍射反射功能高效反光鏡；
   二向色的防熱透鏡裝置；
   防汞燈泄漏裝置；
   配備蠅眼棱鏡裝置
   配備近紫外光源，
    --220 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 8-10 mW/ cm2
    --254 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 12-14 mW/ cm2
    --365 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 18-20 mW/ cm2
    --400 nm 輸出強(qiáng)度 – 大約 30-35 mW/ cm2

主要配置：

   6“，8”光源系統(tǒng)
   可支持2“，3”，4“，6”，8“（圓/方片）及碎片光刻（支持特殊工藝卡盤設(shè)計(jì)）
   手動(dòng)系統(tǒng)，半自動(dòng)系統(tǒng),
   支持電源350-2000 Watt
   支持深紫外近紫外波長(zhǎng)（可選項(xiàng)）
   CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

主要性能指標(biāo)：

   光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity:：
    --<±1% over 2” 區(qū)域
    --<±2% over 4” 區(qū)域
    --<±3% over 6” 區(qū)域
   接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
   接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um
   支持接近式曝光，特征尺寸CD：
    --0.8um  硬接觸
    --1um    20 um 間距時(shí)
    --2um    50um 間距時(shí)
   正面對(duì)準(zhǔn)精度±0.5um
   支持正膠、負(fù)膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
   支持LED優(yōu)異電流控制技術(shù)PSS工藝光刻
   支持真空、接近式、接觸式曝光
   支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式