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正陽(yáng)工業(yè)清洗設(shè)備有限公司
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  • UVO光清洗裝置

    設(shè)備簡(jiǎn)介:隨著電子產(chǎn)品的高糯密度微小化的發(fā)展,電子回路板(PCB)以及周邊電路(FPC)的距離和寬度已經(jīng)精確到了數(shù)10μm-下,半導(dǎo)體線路5NM以下

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2021/8/4 9:56:08 對(duì)比
  • 紫外線清洗技術(shù)

    設(shè)備簡(jiǎn)介:當(dāng)聚合物以類(lèi)膜的形式稀疏分布時(shí),通過(guò)UV光照射氧化反映可以進(jìn)行到內(nèi)部,聚合物最終分解成分子如CO2,H2O,O2,N2等,它們蒸發(fā)或者離散,從表面消失

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2021/8/4 9:54:54 對(duì)比
  • 無(wú)塵布擦拭清洗機(jī)

    概述:該設(shè)備專(zhuān)用于各類(lèi)LCM視窗、TP蓋板等玻璃、PC、PMMA亞力等材料的表面清潔,自動(dòng)翻面,全自動(dòng)清潔,清潔效果佳,速度快

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2021/8/4 9:52:51 對(duì)比
  • 高濃度臭氧水(O3)生成系統(tǒng)

    概述該設(shè)備為專(zhuān)用高濃度O3臭氧水生成,可用于玻璃基本、液晶面板、半導(dǎo)體以及硅片等產(chǎn)品的生產(chǎn)制程中替代雙氧水等工序使用

    型號(hào): 所在地:參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2021/8/4 9:51:42 對(duì)比

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