激光熔覆層測厚儀 RFC2000 RFC3000 RFC5000
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一款專業(yè)應(yīng)用于激光熔覆層厚度監(jiān)測的便攜式檢測儀，可無損地測量磁性金屬基體上的非磁性材料或弱磁性符合材料（如激光熔覆粉末）等。
注：由于激光熔覆時熔覆粉末與母材會出現(xiàn)融合面，在顯微鏡下測得，融合和面波峰與波谷間會產(chǎn)生50-140微米左右的融合面高，所以該儀器適合測量140-800微米之間的熔覆層厚度。
一. 測量原理
該方法是針對于復(fù)合材料具有一定的弱磁性，當(dāng)接近于融合面時磁性變的不穩(wěn)定。而如果使用渦流法表面材料又帶有導(dǎo)電性，所以單獨(dú)使用磁阻法和渦流法都無法測量。復(fù)合測試法是將兩種測量方法形成互補(bǔ)，首先測量出基準(zhǔn)塊得出每個點(diǎn)磁阻的電壓值，然后將幾個點(diǎn)為一組分成幾個組，建立數(shù)據(jù)模型后與渦流圖譜相比較，通過計(jì)算出每個曲線段之間的差值經(jīng)過補(bǔ)償后得出測量結(jié)果。
a)磁性測量法
儀器在測量時步首先在母材上清零點(diǎn)，然后測量熔覆后的工件，下面以熔覆層厚度為152um和216um兩個標(biāo)準(zhǔn)厚度樣塊為例。當(dāng)測量母材時檢測出儀器信號電壓值為3.11mv，將此電壓值記憶為0點(diǎn)，當(dāng)測量熔覆層厚度為152um時，檢測儀器電壓值為7.13mv，當(dāng)測量熔覆層厚度為216um時，檢測儀器電壓值為10.15mv，既得出結(jié)果為，3.11mv=±0um 7.13mv=±152um 10.15mv=±216um 以此類推測量出所有標(biāo)準(zhǔn)試塊的電壓值及其對應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)厚度值。
檢測出所有標(biāo)準(zhǔn)試塊對應(yīng)的信號電壓值之后，將兩點(diǎn)之間的信號電壓值做一個曲線即得出兩點(diǎn)之間其它每個點(diǎn)的厚度點(diǎn)的電壓值如圖：(圖例僅供參考不作為實(shí)際測量結(jié)果），將其它點(diǎn)的曲線全部做出來后即得出上圖的測量曲線。
b)電渦流測量法
在激光熔覆過程中接近熱影響區(qū)的熔覆層弱磁性相對較強(qiáng)，如果單用磁組法檢測在300um以下區(qū)域造成測量結(jié)果相對誤差比較大，只能用電渦流檢測方法來彌補(bǔ)并復(fù)核磁阻法的檢測結(jié)果。
電渦流檢測適合用于銅，鋁，合金，不銹鋼上面的非導(dǎo)電涂層測量，基于此原理我們可將電渦流的0點(diǎn)檢測信號來對比復(fù)核磁阻檢測的結(jié)果（300um），即在檢測300um以下厚度值時，每測量一下同時電渦流給出一個0點(diǎn)值，如此值與磁阻法測量的結(jié)果想接近即可認(rèn)為此值正確，如果誤差較大可取兩者的平均值作為測量結(jié)果。
以216um為例 216um=10.15mv磁阻=10.146mv電渦流=0點(diǎn)
以152um為例 152um=7.13mv磁阻=6.27mv電渦流=0點(diǎn)
注：0點(diǎn)指的是1-300um之間熔覆層的任意一個點(diǎn)，與電壓值沒有任何關(guān)系，是渦流檢測的基體原理。 c）300微米以下復(fù)核檢測數(shù)據(jù)模型（紅色代表渦流圖譜，藍(lán)色代表磁阻圖譜） 
d)數(shù)學(xué)模型
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