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行業(yè)產(chǎn)品

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廣東國玉科技股份有限公司


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高精度晶圓檢測(cè)機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地佛山市

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經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：51條

所在地區(qū)：

產(chǎn)品簡介

廣泛應(yīng)用于Si基Wafer表面缺陷、針孔檢測(cè)，透明基板表面顆粒缺陷檢測(cè)，2D圖形檢測(cè)(表面顆粒、劃傷、DIE丟失、破裂、崩邊) 2D關(guān)鍵尺寸檢測(cè)(Pad邊界、關(guān)鍵位置尺寸) 3D Bump檢測(cè)。

詳細(xì)介紹

  • 適用產(chǎn)品 / Applicable Product

    廣泛應(yīng)用于Si基Wafer表面缺陷、針孔檢測(cè)，透明基板表面顆粒缺陷檢測(cè)，2D圖形檢測(cè)(表面顆粒、劃傷、DIE丟失、破裂、崩邊) 2D關(guān)鍵尺寸檢測(cè)(Pad邊界、關(guān)鍵位置尺寸) 3D Bump檢測(cè)。

    技術(shù)特點(diǎn) / Standard Functions

    支持Die2Die 檢測(cè)，同時(shí)支持線寬測(cè)量及套刻測(cè)量三合一
    表面缺陷檢測(cè)能力可達(dá)0.3um
    自動(dòng)檢測(cè)無需人工建立Golden Image
    單機(jī)支持Bright Field，Dark Field 缺陷檢測(cè)模式
    靈活高效多種方式的缺陷Review和自動(dòng)缺陷分類
    多種算法聯(lián)合檢測(cè)，缺陷識(shí)別率高
    支持單層圖形和多層圖形檢測(cè)，及自定義區(qū)域檢測(cè)
    業(yè)界的高速準(zhǔn)確的整版Die檢測(cè)
    高精度線寬量及套刻尺寸測(cè)量系統(tǒng)
    多種波長檢測(cè)光源適配530nm，405nm和365nm
    自動(dòng)腳本Recipe編程能力和自動(dòng)化運(yùn)行

    安裝條件 / Optional Functions

    整機(jī)尺寸1868*1129*1976mm設(shè)備重量1500KG
    峰值功率2KW電源220V 50Hz
    壓縮空氣0.45Map真空-65~100Kpa
    EFU0.13μm內(nèi)外部壓差>4Pa
    靜電消除離子風(fēng)棒*2UPS選配
    安全性機(jī)械手EMO、整機(jī)EMO、安全門傳感器、磁力鎖內(nèi)部潔凈等級(jí)Class10
    標(biāo)準(zhǔn)符合性CE、SEM、S2、S8、S22

    技術(shù)參數(shù) / Technical Parameters

    指標(biāo)規(guī)格
    Wafer尺寸4″6″8″ / 6″8″12″
    上下片方式機(jī)械手上下片/Mapping掃描/預(yù)對(duì)準(zhǔn)
    運(yùn)動(dòng)平臺(tái)隔震平臺(tái)大理石平臺(tái)+隔震，滿足VC-C級(jí)別震動(dòng)要求
    Wafer StageXY行程：300*450 ，重復(fù)精度：50nm單軸
    速度：900mm/sec
    驅(qū)動(dòng)及反饋：直線電機(jī)+Ranishaw(Tonic)光柵
    Chuck真空吸附
    檢測(cè)精度BF
    最?。?00nm    		DF
    最小：100nm
    產(chǎn)能4″<60WPH6″<40WPH ，8″<25WPH ， 12″<15WPH
    光學(xué)系統(tǒng)光路系統(tǒng)雙光路線陣+面陣成像系統(tǒng)，線陣用于快速掃描，面陣用于對(duì)準(zhǔn)及Review
    相機(jī)多線：3200*1Pixel：7nm 面陣2/3彩色CCD
    鏡頭根據(jù)具體的樣品配置
    可提供2X、3.5X、5X、10X、20X、50x、100X等規(guī)格
    光源LED反射光、激光暗場(chǎng)照明、環(huán)形光源

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