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北京金盛微納科技有限公司
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產(chǎn)品型號(hào)
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更新時(shí)間：2023-07-03 09:09:05瀏覽次數(shù)：154次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來自 包裝印刷網(wǎng)詳細(xì)描述本產(chǎn)品通過對(duì)真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動(dòng)控制，使工藝的重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證
詳細(xì)描述
本產(chǎn)品通過對(duì)真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動(dòng)控制，使工藝的重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證。
本設(shè)備的數(shù)字化參數(shù)界面和自動(dòng)化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺(tái)。
本產(chǎn)品增加的進(jìn)樣室采用機(jī)械手自動(dòng)取送片，自動(dòng)化程序更高，并能使反應(yīng)室的真空與工作環(huán)境得以改善。
本產(chǎn)品通過軟、硬件相互配合的互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點(diǎn)保護(hù)等設(shè)計(jì)，結(jié)合各種硬保護(hù)裝置、使設(shè)備的安全性、可靠性得到有效保證。
本設(shè)備主要用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。
產(chǎn)品主要性能指標(biāo)
型號(hào) | MSP-3000 |
真空系統(tǒng) | 進(jìn)樣室：機(jī)械泵系統(tǒng)；刻蝕室：分子泵機(jī)組。 |
濺射靶規(guī)格 | ? |
反應(yīng)室數(shù)量 | 1-3可選 |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)、可定位、轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào) |
濺射不均勻性 | ≤ ±5% |
濺射工位 | 6工位 |
濺射方式 | 定靶濺射，旋轉(zhuǎn)濺射。 |
濺射形式 | 多靶系列可實(shí)現(xiàn)單一靶材濺射，復(fù)合靶材濺射，兩種材料交替濺射。 |
自動(dòng)化程度 | 真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過程全自動(dòng)化控制。 |
人機(jī)界面 | Windows環(huán)境、觸摸屏操作。 |
操作方式 | 全自動(dòng)方式、非全自動(dòng)方式。 |
自動(dòng)化裝置的選配 | 可選擇進(jìn)口件或國產(chǎn)件 |
取/送樣片方式 | 機(jī)械手自動(dòng)取/送樣片 |
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