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低真空超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡/超大面積硅漂移探測器能譜

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產(chǎn)品簡介

性能指標(biāo)電鏡分辨率:高真空模式:1.0nm@15kV

詳細(xì)介紹

性能指標(biāo)

  1. 電鏡分辨率:
  2. 高真空模式:1.0nm @ 15kV;1.6nm @ 1kV;
  3. 低真空模式:1.5nm @ 10kV;1.8nm @ 3kV;
  4. 電鏡加速電壓:200V~30kV,連續(xù)可調(diào),電鏡著陸電壓:50V~30kV,束流大?。?.6pA~100nA;
  5. 電鏡物鏡模式:磁浸入模式UHR、無磁場模式HR;
  6. 檢測器:高真空二次電子檢測器(ETD)、極靴內(nèi)二次電子檢測器(TLD)、極靴內(nèi)背散射電子檢測器(TLD-B)、低真空二次電子檢測器(LVD)、低真空超高分辨二次電子探測器(Helix)、低電壓高襯度背散射電子檢測器(vCD)、樣品室紅外CCD探測器;
  7. EDS分析分辨率:125eV(Mn Kα),EDS元素檢測范圍:Be4-Pu94;
  8. EBSD分析:花樣平均角度偏差MAD≤0.5,在線標(biāo)定解析速度:640點(diǎn)/秒(8×8 binning) 

主要應(yīng)用

  1. 具有一代高穩(wěn)定性、大束流肖特基電子槍,適用于樣品的在各種條件下的分析。
  2. 的電子光學(xué)系統(tǒng)和檢測性能,包括:磁浸入模式、電子束減速模式、極靴內(nèi)探測SE/BSE、vCD,能對信息作和圖像的化。
  3. 優(yōu)異的低加速電壓性能,可以獲得更表面的形貌信息,并減小電子束對樣品損傷。
  4. 優(yōu)異的低真空性能,可以對不導(dǎo)電樣品在不鍍膜的條件下直接進(jìn)行高分辨觀察。 超潔凈的機(jī)械泵和渦輪分子泵真空系統(tǒng)。
  5. AZtec系統(tǒng)利用的Tru-l算法進(jìn)行衍射帶識(shí)別和標(biāo)定,利用更準(zhǔn)確的Tru-Q修正算法進(jìn)行EDS數(shù)據(jù)處理,將EDS和EBSD集成與一體,可以對材料的微觀組織進(jìn)行形貌觀察、元素組成及分布、結(jié)構(gòu)和取向等的表征完整,對未知相進(jìn)行更準(zhǔn)確的鑒定和分析。
  6. 可制作3D圖像和進(jìn)行偽色處理。

樣品要求

  1. 不含有Fe、Co、Ni,無磁性且不會(huì)被磁化(EBSD樣品除外);
  2. 樣品高度小于15mm,直徑小于30mm;
  3. 固體干燥樣品;
  4. 微生物類樣品(如孢子等)請先提供相關(guān)文獻(xiàn),確保無傳染性,否則不予測試。 

 

儀器說明

  1.  Nova NanoSEM 230掃描電鏡配合超大面積SDD能譜儀和快速型電子背散射衍射EBSD,可應(yīng)用于各種挑戰(zhàn)性的材料的形貌觀察、元素組成和分布測試、結(jié)構(gòu)和取向分析。
  2. 如金屬、納米顆粒和粉體、納米管和納米線等各種納米材料、多孔物質(zhì)(如硅、羥基磷灰石)、 塑料電子器件、玻璃基體材料、有機(jī)材料、高分子物質(zhì)、金剛石薄膜、半導(dǎo)體截面、晶體材料、生物樣品、各類薄膜材料和截面等。

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