中國.鑫有研電子科技有限公司
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無掩膜光刻機(科研型）型號DS-2000/14K1．技術特征采用DMD作為數字掩模，像素1024×768采用1倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約1mm×0.75mm采用創(chuàng)新技術——積木錯位蠅眼透鏡實現均明
無掩膜光刻機(科研型）
型號 DS-2000/14K
1．技術特征 采用DMD作為數字掩模，像素1024×768
采用1倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約1mm×0.75mm
采用創(chuàng)新技術——積木錯位蠅眼透鏡實現均明。
采用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現精確工件定位和曝光拼接，
可適應100mm×100mm基片。
2．技術參數
光源：350W球形汞燈（曝光譜線： i線）；
照明均勻性：±2%； 物鏡倍率：1倍
曝光場面積：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm
工件臺運動范圍：X：100mm、 Y：100mm；
工件臺運動定位精度：±1.5μm；
調焦臺運動靈敏度：1μm；
調焦臺運動行程：6mm 轉動臺行程：±6°以上
基片尺寸外徑: Ф15mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm.5mm
3．外形尺寸：840mm（長）×450mm(寬) ×830mm（高）
無掩模光刻機系統(tǒng)關鍵技術：曝光光學系統(tǒng)、光勻化技術、圖形發(fā)生器、投影物鏡、對焦系統(tǒng)、對準系統(tǒng)、精密工件臺、步進拼接、控制軟件等
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