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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司


  • NEWKON新光電動打孔機10N

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-06 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機194-911

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-06 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PAID / VOID 2062

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-05 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PAID / VOID206

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-05 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PR-10

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-04 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PEF-28

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-04 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PR-32E

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-03 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PEF-18

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-03 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PO-60

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-02 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機10-75S

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-02 在線留言

  • 代理日本MIKASA對準曝光機 - MaskAligner -M-1S

    詳細摘要： 簡單介紹：■ 特點■ 手動操作、接觸式對準曝光機?！?依照不同需求以及成本考量?有準直儀型?多面鏡型?整合（積算器）型三種曝光光源?！?有可對應5×5mm~10...

    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-02 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PEF-2017

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-01 在線留言

  • NEWKON新光電動打孔機PO-100

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    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-01 在線留言

  • 代理日本MIKASA對準曝光機 - MaskAligner -M-2LF

    詳細摘要： 簡單介紹：■ 手動操作、接觸式對準曝光機?！?依照不同需求以及成本考量?有準直儀型?多面鏡型?整合（積算器）型三種曝光光源?！?有可對應5×5mm~100×10...

    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-08-01 在線留言

  • KANETEC強力磁鐵掃地機S-1D

    詳細摘要： 簡單介紹：KANETEC強力磁鐵掃地機S-1DKANETEC強力磁鐵掃地機S-1DKANETEC強力磁鐵掃地機S-1D

    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-28 在線留言

  • 日本DNK科研曝光機MA-1200光刻機

    詳細摘要： 簡單介紹：產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)...

    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-03 在線留言

  • 日本DNK科研曝光機MA-1400光刻機

    詳細摘要： 簡單介紹：產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)...

    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-02 在線留言

  • 日本DNK科研曝光機MA-4000光刻機

    詳細摘要： 簡單介紹：主要特長采用獨自的平行調(diào)整機構,能夠高精度地設定掩膜與Wafer間的近接間隙。利用獨自的高速圖像處理技術,實現(xiàn)高精度的對位。利用圖像處理技術,使預對位...

    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-02 在線留言

  • 日本DNK科研曝光機MA-4301M光刻機

    詳細摘要： 簡單介紹：主要特長利用本公司開創(chuàng)的高速圖像處理技術, 實現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對位。裝載機側和卸載機側*多可設置兩個籃具（選購項）。備有冷卻機構，可進行基...

    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-01 在線留言

  • 日本DNK科研曝光機MA-5301ML光刻機

    詳細摘要： 簡單介紹：主要特長搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。采用本公司開創(chuàng)的同軸對位方式和高速圖像處理...

    產(chǎn)品型號：所在地：更新時間：2023-07-01 在線留言

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