VAC-W系列HMDSyuchuli真空烤箱用于在涂膠前對晶片進行預處理。設(shè)備由腔體、真空、加熱、充氮、加液及控制等系統(tǒng)組成。通過多次預抽真空，150oC熱氮加熱，既能達到使硅片表面干燥、潔凈的效果，又能夠有效的防止硅片的氧化和雜質(zhì)的擴散，并且可以通過加液系統(tǒng)在硅片表面開成HDMS保護膜，從而使硅片具有良好的涂膠性能。和手工涂布HMDS相比，具有重復性好，節(jié)省藥液，環(huán)保，對人體無害的顯著優(yōu)點；也可用于晶片其它工藝的清洗?？刂撇捎肞LC，人機界面采用觸摸屏，具有可靠性高，操作方便、直觀等特點。
標準功能：

u LCC臨時高達500°F（260°C）的LCD溫度。高達662°F（350°C）

u 真空度可達1托（133Pa）

u 不銹鋼內(nèi)部和外部，所有內(nèi)部接縫連續(xù)焊接在絕緣側(cè)，以保護腔室免受污染

u 制具有大型LCD顯示屏，集成數(shù)據(jù)記錄功能和USB端口，可實現(xiàn)簡單的烤箱設(shè)置和數(shù)據(jù)導出

u Modbus通信連接，用于遠程監(jiān)控和記錄

u 循環(huán)結(jié)束和高限制聲光報警

u 可編程門鎖

u 開放式控制面板

選項：

u 數(shù)據(jù)采集軟件

u 無油真空泵

u 自動HMD添加裝置

u 符合CE標準